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电子束光刻及微纳米加工技术。 利用电子束光刻相关工艺制备的超短栅长T型栅，对实现超高频GaN基HEMT器件有着至关重要的作用。我们采用自主研发的技术，已开发出20-50nm栅长的器件，申请多项国家发明专利。